TSMC完成28纳米芯片设计生态环境建构

来源：OFweek电子工程网　作者：秩名　责任编辑：admin　发表时间:2011-05-28 13:40　

核心提示：TSMC昨（26）日宣布，已顺利在开放创新平台（Open Innovation PlatformTM）上，建构完成28纳米设计生态环境，同时客户采用TSMC开放创新平台所规划的28纳米新产品设计定案（tapeout）数量已经达到89个。TSMC亦将于美国加州圣地亚哥举行的年度设计自动化会议（

TSMC昨（26）日宣布，已顺利在开放创新平台（Open Innovation PlatformTM）上，建构完成28纳米设计生态环境，同时客户采用TSMC开放创新平台所规划的28纳米新产品设计定案（tapeout）数量已经达到89个。TSMC亦将于美国加州圣地亚哥举行的年度设计自动化会议（DAC）中，发表包括参考流程12.0版（Reference Flow12.0）、模拟/混合讯号参考流程2.0版（Analog/Mixed Signal Reference Flow2.0）等多项最新的客制化设计工具，强化既有的开放创新平台设计生态环境。

TSMC28纳米设计生态环境已准备就绪，提供包括设计法则检查（DRC）、布局与电路比较（LVS）及制程设计套件（PDK）的基础辅助设计；在基础硅知识产权方面有标准组件库（standardcelllibraries）及内存编译程序（memorycompilers）；另外，此设计架构亦提供USB、PCI与DDR/LPDDR等标准接口硅知识产权。客户可经由TSMC-online下载这些设计工具与套件。一直以来，TSMC与电子设计自动化伙伴（EDA）在28纳米世代的合作相当紧密，共同追求设计工具的一致性，改善设计结果。目前EDA主要领导厂商Cadence、Synopsys与Mentor运用于28纳米芯片上的可制造性设计统一（UnitedDFM）架构便是一个很好的例子。

TSMC参考流程12.0版新增加许多特色：可应用于透过硅基板（siliconinterposer）及硅穿孔（TSV）技术制造生产的二点五维与三维集成电路（2.5-D/3-DICs）、提高28纳米以模型为基础仿真可制造性设计的速度；此参考流程亦可运用在先进电子系统阶层设计（ESL），整合TSMC的功率、效能及面积制程技术。另外，此参考流程版本将首次呈现TSMC20纳米穿透式双重曝影设计（Transparent Double Patterning）解决方案，持续累积在创新开放平台架构下20纳米的设计能力。另外，模拟/混合讯号参考流程2.0版本提供先进的多伙伴模拟/混合讯号设计流程，协助处理复杂度与日俱增的28纳米制程效能与设计挑战，并解决在高阶可制造性设计（SuperiorDFM）与设计规范限制（RDR）间兼容性及可靠性问题。

TSMC设计暨技术平台处资深处长侯永清表示：“我们相信客户能立即运用TSMC28纳米先进技术及产能优势来生产他们的设计；同时，客户们也能在不久的将来准备向更先进的20纳米世代设计迈进。通过与电子自动化设计厂商和硅知识产权伙伴间的紧密合作，TSMC已经建构了一个完备且稳固的28纳米设计生态系统，成功地协助客户达成产品设计的目标。此外，参考流程12.0版及模拟/混合讯号参考流程2.0版的推出亦能解决应用于下一世代28纳米与20纳米设计上所面临的关键瓶颈。”

参考流程12.0版及20纳米穿透式双重曝影

随着半导体制程技术向前推进，金属导线厚度愈来愈小，目前微影曝光系统的曝影能力已无法因应20纳米制程技术发展。然而，双重曝影（doublepatterning）这项关键技术，使得现行微影技术能够克服成像分辨率的极限，且毋需使用尚未验证的极紫外光（EUV）微影技术。TSMC的穿透式双重曝影解决方案让系统及芯片设计厂商得以顺利迈入20纳米技术，且毋需调整目前的设计方法或参考流程。此项技术已提供给EDA合作伙伴进行相关产品及服务开发，并已经通过验证准备上市。(责任编辑：admin)

“扫一扫”关注融合网微信号

免责声明：我方仅为合法的第三方企业注册用户所发布的内容提供存储空间，融合网不对其发布的内容提供任何形式的保证：不保证内容满足您的要求，不保证融合网的服务不会中断。因网络状况、通讯线路、第三方网站或管理部门的要求等任何原因而导致您不能正常使用融合网，融合网不承担任何法律责任。

第三方企业注册用户在融合网发布的内容（包含但不限于融合网目前各产品功能里的内容）仅表明其第三方企业注册用户的立场和观点，并不代表融合网的立场或观点。相关各方及作者发布此信息的目的在于传播、分享更多信息，并不代表本网站的观点和立场，更与本站立场无关。相关各方及作者在我方平台上发表、发布的所有资料、言论等仅代表其作者个人观点，与本网站立场无关，不对您构成任何投资、交易等方面的建议。用户应基于自己的独立判断，自行决定并承担相应风险。

根据相关协议内容，第三方企业注册用户已知悉自身作为内容的发布者，需自行对所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）负责，因所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）等所引发的一切纠纷均由该内容的发布者（即，第三方企业注册用户）承担全部法律及连带责任。融合网不承担任何法律及连带责任。

第三方企业注册用户在融合网相关栏目上所发布的涉嫌侵犯他人知识产权或其他合法权益的内容（如，字体、图片、文章内容等），经相关版权方、权利方等提供初步证据，融合网有权先行予以删除，并保留移交司法机关查处的权利。参照相应司法机关的查处结果，融合网对于第三方企业用户所发布内容的处置具有最终决定权。

个人或单位如认为第三方企业注册用户在融合网上发布的内容（如，字体、图片、文章内容等）存在侵犯自身合法权益的，应准备好具有法律效应的证明材料，及时与融合网取得联系，以便融合网及时协调第三方企业注册用户并迅速做出相应处理工作。

融合网联系方式：（一）、电话：（010）57722280；（二）、电子邮箱：2029555353@qq.com dwrh@dwrh.net

对免责声明的解释、修改及更新权均属于融合网所有。