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中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备(2)

来源:融合网|DWRH.net 作者:王月宝 责任编辑:admin 发表时间:2011-07-12 11:43 
核心提示:具有自主知识产权的、具有快速、稳定、可靠的调谐能力的自隔离射频匹配装置; 反应腔内壁选用高纯度、耐等离子特殊材料,开发了最佳的材料加工过程,大大降低了损耗,将杂质微粒数降到最低; 电阻上电极直接加热处

具有自主知识产权的、具有快速、稳定、可靠的调谐能力的自隔离射频匹配装置;

反应腔内壁选用高纯度、耐等离子特殊材料,开发了最佳的材料加工过程,大大降低了损耗,将杂质微粒数降到最低;

电阻上电极直接加热处理的闭环控制为持续的芯片加工过程提供了精确、快速的温度控制;

双反应台反应器的簇架构,可配置多达六个单芯片加工反应台,即在较小的占地面积上获得很高的输出量;

模块化的系统架构使安装和维护操作更简便。

关于中微半导体设备(上海)有限公司

中微公司是以亚洲为基地的半导体设备公司。公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术,制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司总部位于上海,其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、中国台湾、新加坡等地。

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