NV开普勒28nm图形芯片明年初正式发布
融合网|DWRH.net 报道，最新的消息显示，Nvidia旗下代号为“开普勒”（Kepler）的新一代图形芯片目前已经成功流片，采用的是台积电28nm制造工艺。目前开普勒图形芯片的开发情况相当的良好并没有遭遇任何的重大的问题，不过由于采用了全新的28nm制造工艺开普勒高端图形芯片在初期依然有很多的问题需要解决，其中包括了Bug修复以及性能的完善和漏电率的控制等。
至于Nvidia这款28nm高端图形芯片开普勒的发布时间目前来看最早会在今年的第四季度，不过业内人士认为这种可能性还是比较低的，因此一方面台积电方面需要时间来让自己的28nm制造工艺成熟起来另外一方面Nvidia方面也有自己的产品发布的计划，因此开普勒高端显卡会在明年初正式发布并上市。
值得关注的是目前的图形芯片都是采用了40nm制造工艺，但是40nm制造工艺已经让图形芯片在性能上遭遇了瓶颈，在这样的情况下28nm制造工艺的到来就显得很有必要也是大势所趋。另外值得关注的是Nvidia的重要竞争对手AMD所推出的28nm制造工艺的图形芯片南方群岛已经被AMD官方多次强调将会在今年年底之前正式发布，不过相比之下Nvidia方面实际上这一次的节奏并没有落后于竞争对手，因此两大巨头之间的一番龙争虎斗必然在明年初拉开序幕。
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