SEMICON West2011议题回顾：光刻界新动向总结汇总

来源：cnBeta　作者：electroiq　责任编辑：admin　发表时间:2018-11-01 11:22　

核心提示：SEMICON West 2011会场本周又传来了许多令人感兴趣的半导体业界信息，其中本周三的会议内容多与光刻技术有关，一起来回顾一下。 GlobalFoundries透露20nm制程部分细节：首先是GlobalFoundries工程师Mark Kelling的发言，他在发言中提前透露了GlobalFoundrie

SEMICON West 2011会场本周又传来了许多令人感兴趣的半导体业界信息，其中本周三的会议内容多与光刻技术有关，一起来回顾一下。

GlobalFoundries透露20nm制程部分细节：

首先是GlobalFoundries工程师Mark Kelling的发言，他在发言中提前透露了GlobalFoundries公司20nm节点制程产品的一些细节参数，以及将用于制造20nm制程产品的大致光刻技术方案。

据他透露，制程细节参数方面，相比22nm节点，GlobalFoundries20nm节点的多晶硅层节距（即栅节距）将从100nm缩减到80nm，而金属层节距（相当漏源极触点节距）将从80nm缩减至64nm。

光刻技术方面，如以前公布的信息类似（之前GlobalFoundries的说法是，稳妥起见，20nm节点会同时使用EUV和193i+DP两种技术制作芯片产品，由客户自由选择），GlobalFoundries公司表示20nm节点制程他们将使用双重成像技术，不过这次他们透露将采用的双重成像技术使用了一种特殊的负调光阻胶显影技术（negative-tone develop resist process），不过他拒绝透露这种特殊技术的更多细节。

PS：

“负调光阻胶显影技术”的说法听起来似乎与双调显影技术（DTD:Dual tone develpoment）存在某种类似的联系，所谓DTD指的就是采用特殊的双调显影型光阻胶材料，只进行一次曝光，不过曝光完成后进行两次显影处理，第一次为正调显影，即曝光剂量大于某门限值的光阻胶被消除；第二次为负调显影，即曝光剂量小于某门限值的光阻胶被消除。如此便可达到双重成像的效果。

尼康ASML介绍新款193i光刻机及EUV光刻机产品信息：

接着是两大光刻设备厂商荷兰ASML和日本尼康的发言。两家公司均展示了其193nm光刻机和EUV光刻机的新版本未来发展蓝图计划。

尼康表示，其即将发布的621D光刻机（193nm液浸式设计）系统的套准精度将可控制在2nm（3σ值）以内水平，这款新机型同时还将应用光刻机扫描曝光参数自动调节技术（ scanning tuning exposure control），即根据晶圆实际形貌和实际的电路布局状况，微调焦距和曝光剂量，以此减小光刻制程变差，提高193nm液浸式光刻机性能的技术手段。更多有关NSR-S621D机型的信息，请参阅我们此前的有关报道。

另外，尼康还表示其试验型EUV-1光刻机数值孔径（NA）将达0.25，而制造用型EUV-HVM光刻机的数值孔径（NA）将达到0.4水平。

另外一家光刻大厂ASML则老调重提，展示了从试量产型的NXE:3100机型（NA=0.25）,到正式量产型NXE:3300B（晶圆产出率125片/小时）的一些技术参数，至于人们所关心的光源功率方面，ASML表示3300B所用光源可向晶圆表面传送的光源能量将达到15mJ水平。(责任编辑：admin)

“扫一扫”关注融合网微信号

免责声明：我方仅为合法的第三方企业注册用户所发布的内容提供存储空间，融合网不对其发布的内容提供任何形式的保证：不保证内容满足您的要求，不保证融合网的服务不会中断。因网络状况、通讯线路、第三方网站或管理部门的要求等任何原因而导致您不能正常使用融合网，融合网不承担任何法律责任。

第三方企业注册用户在融合网发布的内容（包含但不限于融合网目前各产品功能里的内容）仅表明其第三方企业注册用户的立场和观点，并不代表融合网的立场或观点。相关各方及作者发布此信息的目的在于传播、分享更多信息，并不代表本网站的观点和立场，更与本站立场无关。相关各方及作者在我方平台上发表、发布的所有资料、言论等仅代表其作者个人观点，与本网站立场无关，不对您构成任何投资、交易等方面的建议。用户应基于自己的独立判断，自行决定并承担相应风险。

根据相关协议内容，第三方企业注册用户已知悉自身作为内容的发布者，需自行对所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）负责，因所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）等所引发的一切纠纷均由该内容的发布者（即，第三方企业注册用户）承担全部法律及连带责任。融合网不承担任何法律及连带责任。

第三方企业注册用户在融合网相关栏目上所发布的涉嫌侵犯他人知识产权或其他合法权益的内容（如，字体、图片、文章内容等），经相关版权方、权利方等提供初步证据，融合网有权先行予以删除，并保留移交司法机关查处的权利。参照相应司法机关的查处结果，融合网对于第三方企业用户所发布内容的处置具有最终决定权。

个人或单位如认为第三方企业注册用户在融合网上发布的内容（如，字体、图片、文章内容等）存在侵犯自身合法权益的，应准备好具有法律效应的证明材料，及时与融合网取得联系，以便融合网及时协调第三方企业注册用户并迅速做出相应处理工作。

融合网联系方式：（一）、电话：（010）57722280；（二）、电子邮箱：2029555353@qq.com dwrh@dwrh.net

对免责声明的解释、修改及更新权均属于融合网所有。