芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析(2)
台积电不准备脚踏两只船，同时走EUV和无掩模技术两条路。他们曾一度大力支持无掩模技术的发展，并曾积极投资无掩模技术的设备厂商 Mapper Lithography，后者还曾在台积电的研究设施中安装了一台5KeV功率的110-beam电子束光刻设备，并使用这台机器成功造出了20nm制程级别的芯片。不过这台机器仍为“Alpha”试验型产品，不适合做量产使用。
但台积电最近在光刻战略上有了较大的转变，他们最近从ASML那里订购了一台试产型NXE:3100 EUV光刻机,这台光刻机将在今年早些时候安装到台积电的工厂中， 林本坚为此表示：“EUV技术的研发资金投入状况更好一些，不过我们担心研发成本问题。”
另外，台积电也对EUV在曝光功率方面的问题表示担忧。当然无掩模电子束光刻技术也碰上不少问题，比如如何解决数据量，产出量问题等。有人认为Mapper公司可能还需要再凑足3一美元左右的资金才可以开发出一台量产型的电子束直写设备。
那么台积电在16nm节点究竟会采用哪一种次世代光刻技术呢？这个问题目前还得不出明确的答案。不过如果从各项技术所获得的资源支持来看，EUV获选的可能性似乎是最大的。林本坚表示：“这就像是一场龟兔赛跑，而富有的一方则是那只兔子。”他还表示：“我们已经开始关注这个问题。”同时他还不无讽刺地表示，虽然市面上有许多研发无掩模光刻技术的厂商，但Globalfoundries目前还没有找到能够符合其要求的解决方案。
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