国产ITO溅镀设备上市 推动LED芯片出光效率提升
提升出光效率、降低生产消耗是LED芯片生产线关注焦点，在国产ICP刻蚀设备获得巨大市场成功之后，基于集成电路领域先进PVD技术的积累，北方微电子于2012年推出iTopsITOsputter-透明电极溅射沉积设备，为芯片生产线提供高质量的ITO薄膜沉积工艺，提升LED芯片出光效率。
与传统蒸镀工艺相比，北方微电子的磁控溅射设备可以将芯片的输出光效提升5%-10%，靶材的高利用率更可大幅降低生产中的材料消耗。
该系统兼容2-4英寸蓝宝石、碳化硅等多种材料基片，具备极强的技术扩展能力。设备舒适便捷的人机交互界面，优异的可靠性、稳定性与重复性完全满足LED芯片制造商对高质量ITO薄膜的生产需求。
该设备目前已完成了多家主流生产线的工艺验证，得到了客户认可并获得批量销售订单。北方微电子坚信，随着ICP刻蚀机、ITO溅镀机等众多国产高端工艺设备市场应用程度的提升，我国LED外延片、芯片制造产业将会在产品性能、生产成本等方面获得更多收益。
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