中芯发布0.11微米 UHD IP 库解决方案—可节省平均31%芯片面积

来源：融合网|DWRH.net　作者：佚名　责任编辑：admin　发表时间:2012-03-09 09:30　

核心提示：中芯国际该通过硅验证的超高密度（Ultra High Density）IP库解决方案，包含中芯国际基于更小存储单元（bit cell）自主研发的超高密度IP，以及 Mentor Graphics（纳斯达克: MENT）开发的cool-memory IP库（MemQuest(TM)存储编译器）。

融合网|DWRH.net专稿 2012年3月8日，中芯国际集成电路制造有限公司宣布，其0.11微米后段铜制程（Cu-BEoL）超高密度IP库解决方案可为客户平均节省31%芯片面积。

中芯国际该通过硅验证的超高密度（Ultra High Density）IP库解决方案，包含中芯国际基于更小存储单元（bit cell）自主研发的超高密度IP，以及 Mentor Graphics（纳斯达克: MENT）开发的cool-memory IP库（MemQuest(TM)存储编译器）。其中中芯国际的超高密度IP库包含： 6-Track超高密度的标准单元（standard cell）库，超高密度存储编译器，和超高密度标准输入输出接口（I/O）单元库。Mentor Graphics开发的 cool-memory IP库则包含了 coolSRAM-6T(TM)，coolREG-6T(TM)，coolREG-8T(TM) （Dual Port），coolREG-8T(TM) （Two Port），以及 coolROM(TM)。该统一的IP库解决方案可供中芯客户免费使用,提供在功率优化，速度以及密度上不同的配置，以满足客户需求。

中芯国际此次发布的超高密度IP库解决方案，与传统IP库相比，可使客户在设计上平均节省31%的芯片面积，大大提升了中芯国际在0.11微米工艺节点上的成本优势。此次通过硅验证的0.11微米超高密度IP解决方案，可以被广泛应用在移动存储设备、闪存控制器、移动多媒体播放器、数字电视、机顶盒等领域。

“中芯国际0.11微米铜制层生产线极高的工艺稳定性得到了客户的认可。中芯国际铜制层生产线量产至今，采用中芯国际0.11微米IP库的晶圆累计出货已达到十几万片，”中芯国际产品市场处高级总监陈昱升表示。“中芯国际北京12英寸和上海8英寸晶圆厂，可以根据客户的芯片尺寸和数量提供灵活的定制性服务，极大地满足了不同类型客户的流片需求。搭配0.11微米后段铜制程超高密度IP库解决方案，将可进一步帮助客户大大降低其制造成本，提高市场竞争力。”

(责任编辑：admin)

“扫一扫”关注融合网微信号

免责声明：我方仅为合法的第三方企业注册用户所发布的内容提供存储空间，融合网不对其发布的内容提供任何形式的保证：不保证内容满足您的要求，不保证融合网的服务不会中断。因网络状况、通讯线路、第三方网站或管理部门的要求等任何原因而导致您不能正常使用融合网，融合网不承担任何法律责任。

第三方企业注册用户在融合网发布的内容（包含但不限于融合网目前各产品功能里的内容）仅表明其第三方企业注册用户的立场和观点，并不代表融合网的立场或观点。相关各方及作者发布此信息的目的在于传播、分享更多信息，并不代表本网站的观点和立场，更与本站立场无关。相关各方及作者在我方平台上发表、发布的所有资料、言论等仅代表其作者个人观点，与本网站立场无关，不对您构成任何投资、交易等方面的建议。用户应基于自己的独立判断，自行决定并承担相应风险。

根据相关协议内容，第三方企业注册用户已知悉自身作为内容的发布者，需自行对所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）负责，因所发表内容（如，字体、图片、文章内容等）等所引发的一切纠纷均由该内容的发布者（即，第三方企业注册用户）承担全部法律及连带责任。融合网不承担任何法律及连带责任。

第三方企业注册用户在融合网相关栏目上所发布的涉嫌侵犯他人知识产权或其他合法权益的内容（如，字体、图片、文章内容等），经相关版权方、权利方等提供初步证据，融合网有权先行予以删除，并保留移交司法机关查处的权利。参照相应司法机关的查处结果，融合网对于第三方企业用户所发布内容的处置具有最终决定权。

个人或单位如认为第三方企业注册用户在融合网上发布的内容（如，字体、图片、文章内容等）存在侵犯自身合法权益的，应准备好具有法律效应的证明材料，及时与融合网取得联系，以便融合网及时协调第三方企业注册用户并迅速做出相应处理工作。

融合网联系方式：（一）、电话：（010）57722280；（二）、电子邮箱：2029555353@qq.com dwrh@dwrh.net

对免责声明的解释、修改及更新权均属于融合网所有。