嵌入式存储技术在SoC设计的应用(2)
甚至在制造之前,大的存储器块必须很好满足后端布局布线的要求。目前在超大块的存储器顶层布线的能力已经使得它们对于布局布线环境来说更加友好了。
带公共BIST模块的测试方案也已经变得很友好。如今,用户可以在众多面向嵌入式存储器测试方案中进行选择,有些方案需要晶圆级存储器测试器,而有些非常依赖于BIST结构。针对给定设计选择最好的测试方案,需要用户和硅片供应商一起详细讨论。
大的DRAM模块变得更加“友好”的另一个方面是其功耗。从180纳米向130纳米转换时功耗已经得到极大的改善。在130纳米工艺下,一个分页写模式的 DRAM功耗只有180纳米工艺下的34%。待机功耗也降到了180纳米下的24%,而停止工作时的功耗只有180纳米下的12%。功耗的减少有助于推动大的嵌入式DRAM在便携式摄像机和手机SoC中的应用。
嵌入式存储器的繁荣完全归功于新的集成工艺技术的成功,开发这些工艺技术的初始阶段就考虑了大存储器。工艺一代比一代更加精良,保证了含有SRAM或DRAM芯片的高成品率。仅仅在这个层面上,就可以预言ASIC厂商能提供具有成本效益的嵌入式存储器。
基于这个原因,用户可以预计SRAM和内嵌沟道型DRAM将是未来SoC的流行选择。除了成本的降低,采用这类存储器可以把上市时间和设计风险降到最低。要得到这些好处,用户要注意的是必须有效利用其工艺供应商的存储器IP,因为制造工艺要结合专门的存储器结构才能发挥作用。
针对非易失性存储要求,东芝公司已经发现,在一个堆叠裸片封装中将SoC和现成的闪存结合在一起可以工作得非常好,而且成本较低。另外,SRAM对于小的、高速的SoC存储器来说是理想选择,而嵌入式沟道型DRAM适合于满足大的存储块需要。
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